マイクロプロセッサーやメモリーなどの半導体は、ますます大容量化・微細化が進んでおり、これに伴って、回路の原板となるマスクを作成するための光源も、レーザービームから、電子銃が作り出すいっそう波長の短い電子ビームへと移行しております。エー・アンド・デイは早くからこの電子銃の開発に取り組んでおり、世界でもトップクラスの出力と安定性稼働率をそなえた製品を送り出してきました。現在は表面分析用のイオン銃として、またDVDのマスタリング用として、その用途はますます拡大しています。

この電子ビームの照射方向を制御するビーム偏向回路など周辺回路の提供も行っており、それを可能にしているのが、創業以来の基幹技術であるA/D・D/A変換テクノロジーを応用した超高速・高精度D/A変換器（DAC）です。

エー・アンド・デイはこのようなユニットをマスク製造装置メーカーを中心に提供しており、ユニット・サプライヤーとしての地位を確立しています。今後も、さらなる微細化に対応するための開発を継続して、高性能化と用途の拡大を目指していきます。